大家好，小淋来为大家解答以上问题。黄光制程的详细解析，黄光制程很多人还不知道，现在让我们一起来看看吧！

1、光刻技术是先将掩模上的主图形转移到感光材料上，然后用光透过掩模照射到感光材料上，再浸泡在溶剂中，使感光材料被光照射的部分溶解或保留，这样形成的光刻胶图形就会与掩模完全相同或互补。因为光刻过程的环境是黄光而不是一般照相暗室中的红光，所以这部分过程常简称为‘黄光’。

2、由于IC晶体方块中的图案都被芯片上的光刻胶覆盖，它们随后被曝光并显影成形。光致抗蚀剂可以曝光，特别是紫外线(UV)。所以在显影前应该远离这类光源。黄光的波长较长，使得光刻胶的曝光效果很低，所以在显影前作为照明光源。

3、http://www.wshkingpcb.cn/qywh/ShowArticle.asp?ArticleID=5670

4、http://www.shebei114.cn/info/detail/50-4669.html

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