芯片制造的流程是非常复杂的，需要使用各种各样的半导体设备和材料。其中光刻胶在光刻过程中用于保护晶圆衬底基座，并在晶圆表面呈现芯片线路图案。

全球光刻胶市场一直被日本垄断中，而中企传来好消息，国产14nm光刻胶开始投产了。这是怎样的破冰情况呢？打破光刻胶垄断有多重要？

国产光刻胶更进一步

一颗小小的芯片，背后是千亿美元的产业链，从设计到制造，再到封装测试，一系列的环节都需要大量的技术设施支持。软件层面的EDA，硬件领域的光刻机，除此之外，看似不起眼的光刻胶材料也能起到至关重要的作用。

光刻胶在芯片制造行业只占很少的成本，可如果没有光刻胶，即便掌握高端EUV光刻机，也未必能将芯片图案曝光在晶圆上。

光刻胶是一种光敏化学材料，光刻机运作过程中，用于抗腐蚀图层，从而在晶圆表面得到所需的图像。

这么重要的材料，大部分的核心技术以及市场份额掌握在日本手中。总部位于东京的JSR是高端光刻胶供应商，可以提供大量的ArF，EUV等光刻胶材料，占据全球30%至40%左右的市场份额。

还有东京应化这家日本企业，在EUV光刻机市场份额也超过了50%。信越化学同样掌握高端光刻胶的核心技术，与JSR，东京应化这几家日企垄断了全球90%的光刻胶市场。

市场上主流的光刻胶基本来自日本，台积电，三星根本离不开日本光刻胶供应。只是市场，技术掌握在对方手中，难免会受到制约。因产能和规则问题，日本企业未必能保证顺利出货。

所以掌握自主光刻胶显得十分重要，中国也有自己的光刻胶厂商，主要包括南大光电、上海新阳、晶瑞电材等等。

其中南大光电立功了，传来了ArF光刻胶破冰的好消息。根据媒体消息，南大光电可用于14nm的ArF光刻胶开始投产，正在对客户交付。

南大光电是国产光刻胶的领头羊，接连取得相应的突破进展。先是在今年第一季度建成两条ArF光刻胶生产线，然后又进行了客户验证，对ArF光刻胶的项目稳定推进。

南大光电的立功让国产光刻胶更进一步，在中低端光刻胶领域实现了大部分产品的国产化，面向高端也有一些布局行动。

虽然日本企业依然掌握核心技术和主要市场份额，但随着国产光刻胶技术的不断深耕，未来实现更大规模的出货，在国产生产线实现替代化，那么打破垄断未必不可能。

打破光刻胶垄断有多重要？

日本在光刻胶赛道起步较早，入局者较多，所以积累了大量的核心技术，形成知识专利体系壁垒。想要打破垄断的话，只能寻找更多的出路，探索更多的技术可行性。

因此花费的时间是非常多的，即便同样是KrF，ArF制程，也得实现技术的唯一性。好的一面是，南大光电的技术具有唯一性和不可替代性等特点，是目前国产光刻胶领域的佼佼者。

经过二十多年的积累沉淀，南大光电可以为客户提供定制化产品服务，在客户的平台进行光刻胶产品验证，并进行调校，优化服务方案。面对日企的行业领先，打破垄断有多重要？

首先国产芯片正在加速前行，需要更多的国产产业链技术设施支持。

国内定下了70%的芯片自给率目标，实现这一目标不仅需要产能支持，而且背后的产业链也需要提供自主化技术，以便在较短的时间内能满足提产的需求。

光刻胶是一大重点，从低端的g线，i线，再到中高端的KrF，ArF光刻胶，甚至未来的EUV也需要持续攻克。国产芯片正在加速前行，有了国产产业链技术设施的支持，可以建立夯实的供应基础。

其次在供货，定价等方面掌握话语权。

产品掌握在别人的手中，能拿到多少货品，花多少钱采购都由别人说了算。日本光刻胶厂商一度因产能稀缺无法正常供货，且价格持续暴涨。

若打破垄断，有了自己的产品作为替代和候补，那么在供货，定价等方面就能掌握话语权。即便不需要放弃对方的光刻胶产品，也能以国产光刻胶作为退路，增加议价的权利。

国产光刻胶在这几年持续发力，有南大光电，上海新阳以及徐州博康等公司参与其中，相关的技术，产业链设施都在逐步完善。尤其是南大光电的ArF光刻胶，是可应用于55nm，28nm，14nm等制程的重要材料。

国产芯片正在扩大成熟芯片产能，相信能为国产芯片的发展带来更多的助力。

写在最后

光刻胶是芯片制造过程中不可获取的材料，国产厂商起步时间较晚，所以许多方面还需要攻坚克难。好在国产光刻胶已经开始提速了，积累不少关键技术，期待能取得更大的突破。

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