打破国外对“光刻胶”的垄断,“冰刻2.0”三维微纳加工系统雏形初现

光刻胶是微纳加工过程中非常关键的材料。有专家表示 中国要制造芯片 光有光刻机还不够 还得打破国外对“光刻胶”的垄断。

日前 西湖大学仇旻研究团队在《纳米快报》《纳米尺度》《应用表面科学》等期刊上连续发表一系列研究成果 雕刻小到微米甚至纳米级别的“冰雕”游刃有余 从精确定位到精准控制雕刻力度 再到以“冰雕”为模具制作结构、加工器件 一套以“wafer in device out”(原料进 成品出)为目标的“冰刻2.0”三维微纳加工系统雏形初现。

这个研发带来显然极具前景 为何这样说呢?零下140摄氏度左右的真空环境 能让水蒸气凝华成无定形冰。“无常形”的水蒸气可以包裹任意形状的表面 哪怕是极小的样品也没有问题;水蒸气轻若无物 使在脆弱材料上加工变成可能。对应“光刻胶” 他们给这层水冰起名“冰胶” 给冰胶参与的电子束光刻技术起名“冰刻”。

实际上 一旦将光刻胶换成了冰胶 还能够极大地简化加工流程 规避洗胶带来的污染 以及难以洗净的光刻胶残留导致良品率低等问题。“冰刻”只需要让冰融化或升华成水蒸气即可 仿佛这层冰胶不曾存在过一样。

上述团队在最新发表的文章结尾 他们用一种非常科幻的方式展望了“冰刻”的未来。毫无疑问 未来围绕“冰刻”的研究 将聚焦于传统“光刻”能力无法企及的领域。

受益于水这种物质得天独厚的生物相容性 在生物样本上“冰刻”光子波导或电子电路有望得以实现。

责任编辑:PSY

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