光刻胶是微纳加工过程中非常关键的材料。有专家表示 中国要制造芯片 光有光刻机还不够 还得打破国外对“光刻胶”的垄断。

日前 西湖大学仇旻研究团队在《纳米快报》《纳米尺度》《应用表面科学》等期刊上连续发表一系列研究成果 雕刻小到微米甚至纳米级别的“冰雕”游刃有余 从精确定位到精准控制雕刻力度 再到以“冰雕”为模具制作结构、加工器件 一套以“wafer in device out”（原料进 成品出）为目标的“冰刻2.0”三维微纳加工系统雏形初现。

这个研发带来显然极具前景 为何这样说呢？零下140摄氏度左右的真空环境 能让水蒸气凝华成无定形冰。“无常形”的水蒸气可以包裹任意形状的表面 哪怕是极小的样品也没有问题；水蒸气轻若无物 使在脆弱材料上加工变成可能。对应“光刻胶” 他们给这层水冰起名“冰胶” 给冰胶参与的电子束光刻技术起名“冰刻”。

实际上 一旦将光刻胶换成了冰胶 还能够极大地简化加工流程 规避洗胶带来的污染 以及难以洗净的光刻胶残留导致良品率低等问题。“冰刻”只需要让冰融化或升华成水蒸气即可 仿佛这层冰胶不曾存在过一样。

上述团队在最新发表的文章结尾 他们用一种非常科幻的方式展望了“冰刻”的未来。毫无疑问 未来围绕“冰刻”的研究 将聚焦于传统“光刻”能力无法企及的领域。

受益于水这种物质得天独厚的生物相容性 在生物样本上“冰刻”光子波导或电子电路有望得以实现。

责任编辑：PSY